郭一連續(xù)好幾天都在A1廠出沒,，尋找這可以提升芯片制造工藝的關(guān)鍵點(diǎn),。

　　材料熱膨脹相互的影響，光的衍射對于光刻的影響，線寬控制的幾個常規(guī)改進(jìn),，光學(xué)近距效應(yīng)修正，硅片平臺水平控制的關(guān)鍵因素,，光刻膠涂膠工藝的改進(jìn)……

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　　隨著每天在工廠觀摩推演芯片制造的整個流程,，郭一的小本本上記滿了各種可以對工藝有明顯改進(jìn)的方法。

　　“安叔,，召集工程師們,，開會?！?p>　　郭一雖...