周六,,模擬實驗室給出了基于“三種傳輸層優(yōu)化方法”的摸索結果,。
第一種方法,,也就是采用幾種新的不需要高溫退火的傳輸層材料進行旋涂,。
這種方法制備得到的器件性能,,總體上比之前高溫氧化鋅方法得到的器件性能略低,,器件效率散布在標樣效率的80-95%之間,。
性能下降倒不一定是材料本身的問題,,還可能是加工工藝摸索的不夠充分,。
不僅如此,這些傳輸層材料大多都是基于正結構...
周六,,模擬實驗室給出了基于“三種傳輸層優(yōu)化方法”的摸索結果,。
第一種方法,,也就是采用幾種新的不需要高溫退火的傳輸層材料進行旋涂,。
這種方法制備得到的器件性能,,總體上比之前高溫氧化鋅方法得到的器件性能略低,,器件效率散布在標樣效率的80-95%之間,。
性能下降倒不一定是材料本身的問題,,還可能是加工工藝摸索的不夠充分,。
不僅如此,這些傳輸層材料大多都是基于正結構...