第67章 參觀晶圓廠流水線(中)
這一步顯然需要改進(jìn),,更加自動(dòng)化的生產(chǎn)線大多都是通過(guò)軌道自動(dòng)運(yùn)輸晶圓,,在穩(wěn)定性和安全性上無(wú)疑就是大大超越了人工運(yùn)輸。
“這一步的良品率大概在多少,?”王向中靠近牛玉鵬,,貼著對(duì)方的耳朵問(wèn)道,。
“這個(gè)得問(wèn)質(zhì)量部門,我一個(gè)行政,,也不太清楚這些事情,。”牛玉鵬也是攤開(kāi)了手,,顯得有些無(wú)奈,。
王向中也沒(méi)辦法,只得點(diǎn)了點(diǎn)頭,,畢竟牛玉鵬現(xiàn)在不過(guò)是個(gè)辦公室主任,,不知道生產(chǎn)上的詳細(xì)數(shù)據(jù)倒也很正常。
但顯然這一步肯定還是有些許問(wèn)題的,,只要拿到數(shù)據(jù),,說(shuō)不定就可以得出一些結(jié)論來(lái)。不過(guò)考慮到成本,,只要對(duì)工作人員進(jìn)行更多的培訓(xùn),,也許可以在這個(gè)環(huán)節(jié)上減緩一些損失。
接下來(lái)是打磨倒角工藝,,在這一環(huán)上,,需要將每張晶圓打磨至775微米左右的厚度,也就是約0.7毫米左右的厚度,,還要特意在晶圓背面做背損傷,,以方便后續(xù)流程進(jìn)行雜質(zhì)的沉積。
而倒角則是要將晶圓邊緣側(cè)面進(jìn)行打磨,,將直角面打磨成弧面,,以防止在之后的光刻膠噴涂工序和外延生長(zhǎng)工序時(shí),不會(huì)因?yàn)殡x心力過(guò)大而導(dǎo)致晶圓邊緣出現(xiàn)沉積現(xiàn)象,。
再接下來(lái)就是化學(xué)刻蝕和CMP(Chemical-Mechanical Polishing,,化學(xué)機(jī)械拋光)步驟,這兩道工序的目的相同,,首先使用硝酸和氫氟酸對(duì)晶圓表面進(jìn)行清洗,,保證去除切割所帶來(lái)的雜質(zhì),接著將硅片安裝在特定旋轉(zhuǎn)的拋光的儀器上,,稍稍打薄個(gè)5微米左右的厚度,,保證盡可能平整晶圓表面,將起伏控制在50nm以下,。
最終,,再用超純水去除晶圓表面所殘留的研磨液和拋光墊殘留雜質(zhì),保證表面殘留顆粒不大于100nm,即可得到單晶襯底,,也就是基片,,最終送往下一步光刻步驟,。
這幾個(gè)步驟所用的機(jī)器都是進(jìn)口的,,也沒(méi)有人工參與,因此王向中也暫時(shí)還沒(méi)有發(fā)現(xiàn)什么問(wèn)題,。
“接下來(lái)就要到光刻工序啦,,”牛玉鵬笑道,“接下來(lái)的東西太專業(yè),,我也不知道該怎么講了,,所以就邀請(qǐng)我們的總經(jīng)理,左為民廠長(zhǎng)來(lái)給大家進(jìn)行講解,?!?p> “總經(jīng)理?”幾人也是面面相覷,,不得不說(shuō)對(duì)方也太給面子了,,僅僅是解說(shuō),居然也請(qǐng)到了總經(jīng)理,。
“大家好,,我是晶華晶圓廠的總經(jīng)理,左為民,?!币膊恢篮螘r(shí),一個(gè)鬼魅般的身影從眾人身后走出,,旋即回頭看向幾人,,眼神陰厲,讓人一看就覺(jué)得不太舒服,。
“自我介紹一下,,我在晶華呆了三十多年了,曾經(jīng)也是晶華的廠長(zhǎng),,親眼見(jiàn)證晶華從PCB業(yè)務(wù)做到半導(dǎo)體業(yè)務(wù),,也是晶華內(nèi)部最強(qiáng)的技術(shù)骨干之一?!弊鬄槊窭^續(xù)說(shuō)道,。
王向中見(jiàn)狀,則是若有所思地盯了對(duì)方一眼,,盡管此時(shí)對(duì)方戴著口罩,,但他仍然是可以在對(duì)方眼中看出那種相當(dāng)?shù)淖载?fù)之意。
不僅是如此,,那種陰厲的眼神中,,還隱隱藏著不屑之意,,似乎是有些看不起他們這些來(lái)自水木大學(xué)的知識(shí)分子,或者可以直接說(shuō)是對(duì)他們存有敵意,。
總之,,對(duì)方來(lái)者不善。
“調(diào)整好你們的防塵服,,接下來(lái)的核心區(qū)域容不得出現(xiàn)半分錯(cuò)誤,。”左為民聲音冷淡,,對(duì)著幾人指揮道,。
不得不說(shuō),這左為民身上還是有一種相當(dāng)?shù)纳衔徽邭赓|(zhì)的,,這輕輕一句話,,就嚇得白馬和金圓圓倆人手忙腳亂地整理起身上地防塵服。
葉志華同樣是敏銳地捕捉到了左為民身上的不尋常氣息,,當(dāng)下也是眼睛微咪起來(lái),。他可不是嚇大的,風(fēng)風(fēng)雨雨這么多年,,什么樣的人沒(méi)見(jiàn)過(guò),?這一嗓子,就是典型的下馬威,。
只是沒(méi)想到自己這邊還沒(méi)有開(kāi)始,,廠里的保守派就已經(jīng)跳出來(lái)了。
作為水木大學(xué)的專家團(tuán)隊(duì),,他們暫時(shí)還不了解廠里的具體運(yùn)作狀況,,所以需要在工程師的幫助下,共同對(duì)晶華可能存在的問(wèn)題進(jìn)行探討,。
但是這里有一個(gè)問(wèn)題,,就是外來(lái)技術(shù)專家和工程師之間,永遠(yuǎn)有著不可調(diào)和的矛盾,。
技術(shù)專家的目的是為了解決工程師遺留的問(wèn)題,,這勢(shì)必要觸及到工程師犯下的錯(cuò)誤,然后將這個(gè)錯(cuò)誤擺在臺(tái)面上來(lái)進(jìn)行論證,,最終完善整條生產(chǎn)線中出現(xiàn)的問(wèn)題,。
左為民作為工程師,作為晶華的技術(shù)骨干,,自然是不愿意承認(rèn)自己的錯(cuò)誤——即使他沒(méi)有能力,,也會(huì)想要試圖掩蓋一切對(duì)其不利的證據(jù),即便最終的代價(jià)是整個(gè)廠消失在歷史長(zhǎng)河中,他也不愿意讓自己的臉面遭受到任何損失,。
葉志華將目光投向一旁的牛玉鵬,,而此時(shí)對(duì)方也是攤了攤手,模樣也是顯得頗為無(wú)奈,。很顯然牛玉鵬是非常清楚這個(gè)問(wèn)題存在的,,但是他們解決不了。
這直接說(shuō)明了,,晶華的問(wèn)題還不僅僅停留于技術(shù)層面上,,在人的層面上,,可能同樣有著不小的矛盾,。
這在場(chǎng)的一切舉動(dòng)自然也是被王向中盡收眼底,不過(guò)他仍然是不動(dòng)聲色,,只是笑著上前說(shuō)道:“左廠長(zhǎng),,我們已經(jīng)準(zhǔn)備好了,可以開(kāi)始了吧,?”
左為民輕輕掃了在場(chǎng)眾人一眼,,輕聲道:“跟我來(lái)?!?p> 再通過(guò)一組氣鎖室,,王向中幾人便是到達(dá)了晶圓廠的內(nèi)部核心所在——光刻室。
光刻室,,是一家晶圓廠的終極奧秘所在,。這里處處遍布著黃色的鈉燈用于照明,氣壓和濕度也達(dá)到了一個(gè)人類舒適范圍之外的指標(biāo),。
一進(jìn)入這里,,不僅會(huì)覺(jué)得鈉燈的光線特別黃,同時(shí),,還會(huì)覺(jué)得防塵服下變得粘膩燥熱起來(lái),,就如同進(jìn)入了高壓鍋一般。
因?yàn)榭諝獾牧鲃?dòng)特性,,氣體總是會(huì)從高壓地區(qū)流向低壓地區(qū),,因此為了保證光刻室內(nèi)的最大純凈程度,光刻室內(nèi)的壓強(qiáng)起碼要比外面的大氣壓高上50pa左右,,以保證外部污染物不會(huì)隨著空氣流入光刻室內(nèi),。
在廣義上,光刻中一般包含三個(gè)步驟,,第一個(gè)步驟是涂膠,,即涂抹光刻膠。
光刻膠分為正膠和負(fù)膠兩種,其中正膠遇光就會(huì)失去原有化學(xué)性質(zhì),,而負(fù)膠遇光就會(huì)產(chǎn)生化學(xué)性質(zhì)的變化,,這兩種膠通常用在不同的工序之中。
第二道工序則是刻蝕,,當(dāng)硅單質(zhì)基底均勻涂抹光刻膠后,,通過(guò)光源對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光,再使用超純水和化學(xué)物質(zhì)對(duì)基底進(jìn)行蝕刻,,在基底表面留下與光掩模一致的坑道,。
而第三道工序則是沉積,在坑道內(nèi)的不同部分摻入硼,、磷等雜質(zhì),,并使其沉積在基底表面,通過(guò)它們不同的化學(xué)性質(zhì),,在基底這張不導(dǎo)電的硅片上人為創(chuàng)造可以單向?qū)щ姷腜N二極管,。